滕羽仪离子源刻蚀基体一般压强多少

离子源刻蚀（IonSource刻蚀）是一种用于微电子制造过程中的关键技术，用于控制薄膜厚度、成核和生长。在这种技术中，离子源产生的离子被用于刻蚀或退火薄膜。离子源刻蚀基体的压强是一个关键因素，它影响到...

2024-03-28 14:08:13424

聚焦离子束